儀器簡(jiǎn)介

RADOM (拉多姆) 專(zhuān)注等離子體技術(shù)領(lǐng)域，為分析儀器、清潔技術(shù)和制氫、固氮等行業(yè)提供可持續(xù)和創(chuàng)新的解決方案。在過(guò)去15年中，RADOM 的科學(xué)家們專(zhuān)注于等離子體技術(shù)的改革創(chuàng)新，開(kāi)發(fā)出一種高度差異化的等離子體技術(shù)，目前已在全球多個(gè)國(guó)家和地區(qū)獲得知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)。

該技術(shù)能夠產(chǎn)生強(qiáng)大且可持續(xù)的等離子體，用于ICP-OES的突破性等離子體發(fā)生器無(wú)需水回路、冷卻器或散熱器，更有100 kW 高功率發(fā)生器選項(xiàng)。這種可擴(kuò)展、無(wú)電極的設(shè)計(jì)提供了很高的效率，旨在提高安全性、降低運(yùn)營(yíng)成本并減少環(huán)境污染，為大規(guī)模工業(yè)和環(huán)境應(yīng)用打開(kāi)了大門(mén)。

RADOM 開(kāi)發(fā)的高性能等離子體發(fā)生器，可以將空氣、N₂、CO₂、H₂、水蒸氣等氣體加熱至等離子體狀態(tài)，溫度超過(guò)5500℃，能夠?yàn)榭蒲袑?shí)驗(yàn)室提供緊湊、易用、可靠且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的等離子體解決方案，滿(mǎn)足等離子體與材料科學(xué)研究的迫切需求。廣泛應(yīng)用于材料加工、表面活化改性、滅菌、氣化、NOx可控合成、等離子體刻蝕、鍍膜與噴涂等領(lǐng)域。

主要特點(diǎn)

Altair 及 Mira 可用于替代 ICP-MS 的常規(guī)氬氣等離子體源，非常適合基于TOF、激光剝蝕及經(jīng)典四極桿等研究探索的質(zhì)譜實(shí)驗(yàn)室，目前在全球科研機(jī)構(gòu)已有十多個(gè)成功改裝案例，涉及四種 ICP-MS 主流品牌。

■ 模塊化設(shè)計(jì)，適應(yīng)多種 ICP-MS 采樣器接口；
■ 視質(zhì)譜類(lèi)型及應(yīng)用方向提供靈活的定制化服務(wù)；
■ 高度穩(wěn)定的等離子體，激發(fā)源使用壽命長(zhǎng)；
■ 無(wú)氬環(huán)境，能夠?qū)衔镞M(jìn)行光譜分析；
■ 減少氬相關(guān)的多原子離子干擾，改善檢測(cè)結(jié)果。

Sirius 高能等離子體發(fā)生器可向170℃的過(guò)熱蒸氣提供高達(dá)100 kW的熱量，蒸氣以50-120 lb/h的流量進(jìn)入炬管。離開(kāi)炬管時(shí)，蒸氣平均溫度可達(dá)3000℃，而炬管內(nèi)部的核心等離子體溫度超過(guò)6000℃。在此條件下，化學(xué)反應(yīng)和材料加熱過(guò)程顯著加速，典型應(yīng)用包括氣化爐中富氫合成氣的合成、PFAS及其他有毒分子的分解，以及廢棄物的玻璃化處理。